INTERSTRATI DI Ni CHIMICO
NELLA DEPOSIZIONE DI TiN-PVD SU ACCIAI COMUNI
 
E. Lanzoni, C. Martini, G. Palombarini
Istituto di Metallurgia, Università di Bologna
viale Risorgimento, 4 - BOLOGNA

 
SOMMARIO
Sono stati depositati diversi interstrati di Ni chimico tra un sostrato di acciaio comune ed un rivestimento di TiN PVD allo scopo di fornire a quest'ultimo un supporto di durezza confrontabile a quella dell'acciaio rapido e di superiore resistenza alla corrosione. Il comportamento tribologico dei multistrati è stato studiato mediante prove di strisciamento a secco in aria di laboratorio e a temperatura ambiente con geometria di contatto pattino su cilindro contro un antagonista ceramico. Si evidenzia il ruolo chiave dell'adesione fra il sostrato e l'interstrato di Ni, oltre alla necessità di ottimizzare il ciclo termico di deposizione del TiN in modo da ridurre al minimo le tensioni interfacciali e realizzare il migliore compromesso tra durezza e tenacità dello strato di Ni chimico. Particolarmente auspicabili sono la deposizione del TiN a temperature non superiori a 350° C e la combinazione di uno strato di Ni-P e uno di Ni-B ad alto tenore di B.

SUMMARY
A number of different electroless Ni interlayers were deposited on a mild steel substrate in order to improve its load supporting capacity and its corrosion resistance, before the deposition of a thin PVD-TiN outer film. The tribological behaviour of the electroless Ni/TiN double layers was studied by sliding wear tests against a ceramic countermaterial coating using a slider-on-cylinder tribometer. The key role of adhesion between the substrate and the electroless Ni coating was stressed together with the importance of the thermal cycle in order to optimize the properties of the system as a whole. It would be particularly useful to decrease the deposition temperature down to 350° C at least, and to combine a Ni-P layer with a high-B Ni-B layer.